日前，上海发布《半导体行业污染物排放标准（征求意见稿）》。详情如下：
前 言
本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则 第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件于2006年11月1日首次发布，本次修订为第一次修订。
本文件对DB31/374-2006的主要修订之处如下：
——调整了水污染物排放标准的标准分级；将原第一类污染物两个级别的排放标准调整为执行同一级别的排放标准，将原第二类污染物三个级别的直接排放标准调整为同一个级别；调整了大气污染物排放标准的排放速率控制方式，将原来按不同排气筒高度制定标准调整为执行同一标准；
——调整了污染物控制项目：增加了水污染物控制项目石油类、总氮、总磷、阴离子表面活性剂、总锌、综合毒性；增加了大气污染物控制项目颗粒物、氯气、氮氧化物、苯、锡及其化合物、砷化氢、磷化氢、非甲烷总烃、氰化氢；
——调整了部分污染物项目的排放限值；收严了悬浮物、化学需氧量、五日生化需氧量、总有机碳等10项水污染物项目的排放限值；收严了硫酸雾、氯化氢、挥发性有机物等3项大气污染物的排放限值；
——增加了厂界大气污染物控制点浓度限值；
——更新了部分污染物项目的测定分析方法。
本文件由上海市生态环境局提出、归口并组织实施。
本文件起草单位：上海市环境科学研究院。
引 言
为贯彻《中华人民共和国环境保护法》《中华人民共和国大气污染防治法》《中华人民共和国水污染防治法》《上海市环境保护条例》《上海市大气污染防治条例》，引导半导体行业企业生产工艺和污染治理技术的进步和可持续发展，结合上海市的实际情况，对DB31/374-2006《半导体行业污染物排放标准》进行修订。
本文件实施之日起，新制定或新修订的国家大气污染物排放标准严于本文件限值，以及国务院生态环境主管部门或市人民政府发布执行特别排放限值公告的，按照从严原则，按适用范围执行相应大气污染物排放标准。恶臭污染物执行DB31/1025。本文件实施后不再执行上海市《大气污染物综合排放标准》（DB31/933-2015）。环境影响评价文件或排污许可证要求严于本文件或地方标准时，按照批复的环境影响评价文件或排污许可证执行。
本文件由上海市人民政府202□年□□月□□日批准。
半导体行业污染物排放
1 范围
本文件规定了半导体行业企业水和大气污染物排放控制要求、监测和监督管理要求。
本文件适用于半导体行业企业或生产设施的水和大气污染物排放管理，以及建设项目的环境影响评价、环境保护设施设计、竣工环境保护验收、排污许可证核发及其投产后的水和大气污染物排放管理。
本文件规定的水污染物排放控制要求适用于半导体行业企业直接或间接向其法定边界外排放水污染物的行为。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB/T 7466 水质 总铬的测定
GB/T 7467 水质 六价铬的测定 二苯碳酰二肼分光光度法
GB/T 7470 水质 铅的测定 双硫腙分光光度法
GB/T 7471 水质 镉的测定 双硫腙分光光度法
GB/T 7475 水质 铜、锌、铅、镉的测定 原子吸收分光光度法
GB/T 7484 水质 氟化物的测定 离子选择电极法
GB/T 7485 水质 总砷的测定 二乙基二硫代氨基甲酸银分光光度法
GB/T 7494 水质 阴离子表面活性剂的测定 亚甲蓝分光光度法
GB/T 11893 水质 总磷的测定 钼酸铵分光光度法
GB/T 11900 水质 痕量砷的测定 硼氢化钾-硝酸银分光光度法
GB/T 11901 水质 悬浮物的测定 重量法
GB/T 11907 水质 银的测定 火焰原子吸收分光光度法
GB/T 11910 水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法
GB/T 11912 水质 镍的测定 火焰原子吸收分光光度法
GB/T 16157 固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法
GB/T 16489 水质 硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法
GB 37822 挥发性有机物无组织排放控制标准
HJ/T 27 固定污染源排气中氯化氢的测定 硫氰酸汞分光光度法
HJ/T 28 固定污染源排气中氰化氢的测定 异烟酸-吡唑啉酮分光光度法
HJ/T 30 固定污染源排气中氯气的测定 甲基橙分光光度法
HJ/T 38 固定污染源排气中非甲烷总烃的测定 气相色谱法
HJ/T 42 固定污染源排气中氮氧化物的测定 紫外分光光度法
HJ/T 43 固定污染源排气中氮氧化物的测定 盐酸萘乙二胺分光光度法
HJ/T 55 大气污染物无组织排放监测技术导则
HJ/T 60 水质 硫化物的测定 碘量法
HJ/T 65 大气固定污染源 锡的测定 石墨炉原子吸收分光光度法
HJ/T 91.1 污水监测技术规范
HJ/T 195 水质 氨氮的测定 气相分子吸收光谱法
HJ/T 199 水质 总氮的测定 气相分子吸收光谱法
HJ/T 200 水质 硫化物的测定 气相分子吸收光谱法
HJ/T 373 固定污染源监测质量保证与质量控制技术规范（试行）
HJ/T 397 固定源废气监测技术规范
HJ/T 399 水质 化学需氧量的测定 快速消解分光光度法
HJ 484 水质 氰化物的测定 容量法和分光光度法
HJ 485 水质 铜的测定 二乙基二硫代氨基甲酸钠分光光度法
HJ 486 水质 铜的测定 2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法
HJ 487 水质 氟化物的测定 茜素磺酸锆目视比色法
HJ 488 水质 氟化物的测定 氟试剂分光光度法
HJ 489 水质 银的测定 3,5-Br2-PADAP分光光度
HJ 490 水质 银的测定 镉试剂2B分光光度法
HJ 493 水质 采样样品的保存和管理技术规定
HJ 494 水质 采样技术指导
HJ 495 水质 采样方案设计技术指导
HJ 501 水质 总有机碳的测定 燃烧氧化-非分散红外吸收法
HJ 505 水质 五日生化需氧量(BOD5)的测定稀释与接种
HJ 533 环境空气和废气 氨的测定 纳氏试剂分光光度法
HJ 534 环境空气 氨的测定 次氯酸钠-水杨酸分光光度法
HJ 535 水质 氨氮的测定 纳氏试剂分光光度法
HJ 536 水质 氨氮的测定 水杨酸分光光度法
HJ 537 水质 氨氮的测定 蒸馏-中和滴定法
HJ 544 固定污染源废气 硫酸雾的测定 离子色谱法（暂行）
HJ 547 固定污染源废气 氯气的测定 碘量法（暂行）
HJ 548 固定污染源废气 氯化氢的测定 硝酸银容量法（暂行）
HJ 549 环境空气和废气 氯化氢的测定 离子色谱法(暂行)
HJ 583 环境空气 苯系物的测定 固体吸附/热脱附-气相色谱法
HJ 584 环境空气 苯系物的测定 活性炭吸附/二硫化碳解吸-气相色谱法
HJ 604 环境空气 总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定 直接进样-气相色谱法
HJ 636 水质 总氮的测定 碱性过硫酸钾消解紫外分光光度法
HJ 637 水质 石油类和动植物油的测定 红外分光光度法
HJ 657 空气和废气 颗粒物中铅等金属元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
HJ 659 水质 氰化物等的测定 真空检测管-电子比色法
HJ 644 环境空气 挥发性有机物的测定 吸附管采样－热脱附/气相色谱－质谱法
HJ 665 水质 氨氮的测定 连续流动-水杨酸分光光度法
HJ 666 水质 氨氮的测定 流动注射-水杨酸分光光度法
HJ 667 水质 总氮的测定 连续流动-盐酸萘乙二胺分光光度法
HJ 668 水质 总氮的测定 流动注射-盐酸萘乙二胺分光光度法
HJ 670 水质 磷酸盐和总磷的测定 连续流动-钼酸铵分光光度法
HJ 671 水质 总磷的测定 流动注射-钼酸铵分光光度法
HJ 688 固定污染源废气 氟化氢的测定 离子色谱法（暂行）
HJ 692 固定污染源废气 氮氧化物的测定 非分散红外吸收法
HJ 693 固定污染源废气 氮氧化物的测定 定电位电解法
HJ 694 水质 汞、砷、硒、铋和锑的测定 原子荧光法
HJ 700 水质 65种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
HJ 732 固定污染源废气 挥发性有机物的采样 气袋法
HJ 734 固定污染源VOCs的测定 固相吸附-热脱附-气相色谱-质谱法
HJ 759 环境空气 挥发性有机物的测定 罐采样/气相色谱-质谱法
HJ 776 水质 32种元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
HJ 777 空气和废气 颗粒物中金属元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
HJ 819 排污单位自行监测技术指南 总则
HJ 823 水质 氰化物的测定 流动注射-分光光度法
HJ 826 水质 阴离子表面活性剂的测定 流动注射-亚甲基蓝分光光度法
HJ 828 水质 化学需氧量的测定 重铬酸盐法
HJ 836 固定污染源废气 低浓度颗粒物的测定 重量法
HJ 905 恶臭污染环境监测技术规范
HJ 908 水质 六价铬的测定 流动注射-二苯碳酰二肼光度法
HJ 944 排污单位环境管理台账及排污许可证执行报告技术规范 总则（试行）
HJ 970 水质 石油类的测定 紫外分光光度法（试行）
HJ 1069 水质 急性毒性的测定 斑马鱼卵法
HJ 1132 固定污染源废气 氮氧化物的测定 便携式紫外吸收法
HJ 1147 水质 pH值的测定 电极法
《污染源自动监控管理办法》（国家环境保护总局令 第28号）
《环境监测管理办法》（国家环境保护总局令 第39号）
3 定义
下列术语和定义适用于本文件：
3.1
半导体行业 semiconductor industry
指从事利用半导体材料的特殊电特性制造，以实现特定功能的电子器件企业，包括分立器件和集成电路两大类产品。
3.2
现有企业 existing facility
本文件实施之日前通过环境影响评价审批或已经投产运行的半导体行业企业或生产设施。
3.3
新建企业 new facility
本文件实施之日起通过环境影响评价审批的新建、改（扩）建建设项目。。
3.4
标准状态 standard condition
温度为273.15K、压力为101325Pa时的状态。本文件规定的大气污染物排放浓度限值均以标准状态下的干气体为基准。
[DB31/933-2015，3.14]
3.5
直接排放 direct disge
排污单位直接或未经终端公共污水处理系统向环境水体排放水污染物的行为。
[DB31/199-2018，3.5]
3.6
间接排放 indirect disge
排污单位向公共污水处理系统排放水污染物的行为。
[DB31/199-2018，3.6]
3.7
挥发性有机物 volatile organic compounds
参与大气光化学反应的有机化合物，或者根据规定的方法测量或核算确定的有机化合物。
a) 用于核算或者备案的VOCs指20℃时蒸气压不小于10 Pa或者101.325 kPa标准大气压下，沸点不高于260℃的有机化合物或者实际生产条件下具有以上相应挥发性的有机化合物（甲烷除外）的统称。
b) 以非甲烷总烃（NMHC）作为排气筒、厂界大气污染物监控、厂区内大气污染物监控点以及污染物控制设施去除效率的挥发性有机物的综合性控制指标。
[DB31/933-2015，3.4]
3.8
非甲烷总烃 NON-methane hydrocarbon, NMHC
采用规定的监测方法，氢火焰离子化检测器有响应的除甲烷外的气态有机化合物的总和，以碳的质量浓度计。
[DB31/933-2015，3.15]
3.9
厂界大气污染物监控点 reference point for air pollutants at enterprise boundary
按照HJ/T 55 确定的厂界监控点，根据污染物的排放、扩散规律，当受条件限制，无法按上述要求布设监测采样点时，也可将监测采样点设于工厂厂界内侧靠近厂界的位置。
[DB31/933-2015，3.18]
3.10
厂界大气污染物监控点浓度限值 concentration limit at reference point for air pollutants at enterprise boundary
标准状态下厂界大气污染物监控点的大气污染物浓度在任何一小时的平均值不得超过的值，单位为mg/m3。
[DB31/933-2015，3.19]
4 水污染物排放控制要求
4.1 新建企业自本文件实施之日起，现有企业自202×年×月×日起，执行表1规定的水污染物排放限值。
4.2 新建和现有半导体行业污水集中处理设施运营单位自2024年1月1日起，按照表2监测废水的综合毒性，每年监测不少于一次，并将监测结果报送生态环境主管部门。该项目为指导性指标，运营单位根据监测结果采取相应的控制措施。
5.1 有组织排放控制要求
5.1.1 新建企业自本文件实施之日起，现有企业自202×年×月×日起，执行表3规定的大气污染物排放限值。
5.1.2 进入VOCs燃烧（焚烧、氧化）装置的废气需要补充空气进行燃烧、氧化反应的，排气筒中实测大气污染物排放浓度，应按式（1）换算成基准含氧量为3%的大气污染物基准排放浓度。
进入VOCs燃烧（焚烧、氧化）装置的废气含氧量可满足自身燃烧、氧化反应，不需另外补充空气的（燃烧器需要补充空气助燃的除外），以实测浓度作为达标判定依据，但装置出口烟气含氧量不得高于装置进口废气含氧量。
5.1.3废气收集处理系统应与生产工艺设备同步运行。废气收集处理系统发生故障或检修时，对应的生产工艺设备应停止运行，待检修完毕后同步投入使用；生产工艺设备不能停止运行或不能及时停止运行的，应设置废气应急处理设施或采取其他替代措施。
5.1.4 新建项目应避免采用燃烧式预处理方式（POU）处理含氯废气。
5.1.5 为减少全氟化物（PFCs）排放对环境产生的影响，集成电路制造企业应制订PFCs排放的年削减计划，通过优化工艺、原料替代、循环利用、污染治理等措施减少PFCs的排放。
5.1.6 排放氯气、氰化氢、砷化氢、磷化氢的排气筒高度不低于25m，其他排气筒高度不低于15m（因安全考虑或由特殊工艺要求的除外），具体高度以及与周围建筑物的距离应根据环境影响评价文件确定。
5.1.7 企业内部有多根排放同一污染物的排气筒时，若两根排气筒距离小于其几何高度之和，应合并视为一根等效排气筒。若有三根以上的近距离排气筒，且均排放同一污染物时，应以前两根的等效排气筒，依次与第三、第四根排气筒取得等效值。等效排气筒的有关参数计算方法见附录A。
5.2 企业边界监控要求
5.2.2 新建企业自本文件实施之日起，现有企业自202×年×月×日起，企业边界任何1h大气污染物平均浓度应符合表4规定的限值。
5.3 企业应按照HJ 944要求建立台帐，记录含VOCs原辅材料的名称、使用量、回收量、废弃量、去向以及VOCs含量。记录保存期限不得少于五年。
6污染物监测要求
6.1 一般要求
6.1.1 企业应按照有关法律、《环境监测管理办法》和HJ 819等规定，建立企业监测制度，制定监测方案，对污染物排放状况及其根据需要对周边环境质量的影响开展自行监测，保存原始监测记录，并公布监测结果。
6.1.2 新建企业和现有企业安装污染物排放自动监控设备的要求，按有关法律和《污染源自动监控管理办法》的规定执行。
6.1.3 企业应按照环境监测管理规定和技术规范的要求，设计、建设、维护永久性采样口、采样测试平台和排污口标志。
6.1.4 新建企业应在污染物处理设施的进、出口均设置采样孔和采样平台；改（扩）建项目如污染物处理设施进口能够满足相关工艺及生产安全要求，则应在进口处设置采样孔。若排气筒采用多筒集合式排放，应在合并排气筒前的各分管上设置采样孔。
6.1.5 实施执法监测期间，企业应该提供工况数据的证明材料。
6.1.6 对企业排放废水和废气的采样，应根据监测污染物的种类，在规定的污染物排放监控位置进行，有废水、废气处理设施的，应在处理设施后监控。根据企业使用的原料、生产工艺过程、生产的产品、副产品等，确定需要监测的污染物项目。
6.2 水污染物监测与分析
6.2.1 水污染物的监测采样，按HJ/T 91.1、HJ 493、HJ 494、HJ 495的规定执行。
6.2.2 水污染物的分析测定，应采用表5所列的方法标准。
6.3 大气污染物监测与分析
6.3.1 排气筒中大气污染物的监测采样按GB/T 16157、HJ/T 373、HJ/T 397和HJ 732的规定执行。对于排放强度周期性波动的污染源，其污染物排放监测时段应涵盖其排放峰值时段。
6.3.2 除臭气浓度外，排气筒中大气污染物浓度可以任何连续1 h采样获得平均值，或者在任何1 h内以等时间间隔采集3-4个样品，计算平均值；对于间歇式排放且排放时间小于1 h，则应在排放阶段实现连续监测，或者在排放时段内以等时间间隔采集2-4个样品，计算平均值。臭气浓度监测应符合HJ 905的规定。
6.3.3企业边界大气污染物的监测采样，按HJ/T 55的规定执行。一般以连续1 h采样获取平均值；若分析方法灵敏高，仅需用短时间采集时，应在1 h内以等时间间隔采集3-4个样品，计算平均值。
6.3.4 大气污染物的分析测定，应采用表6所列的方法标准。
6.4 本文件发布实施后，国家发布新的污染物监测方法标准，若适用性满足要求，同样适用于本文件相应污染物的测定。
7实施与监督
7.1 本文件由市和区生态环境主管部门负责监督实施。
7.2 企业是实施排放标准的责任主体，应采取必要措施，达到本文件规定的污染物排放控制要求。未遵守本文件规定的措施性控制要求，属于违法行为的，依照法律法规等有关规定予以处理。
7.3 对于有组织排放和企业边界及周边地区，采用手工监测或在线监测时，除臭气浓度外，按照监测规范要求测得的任意1 h平均浓度值超过本文件规定的限值，判定为超标。
7.4 现有企业在本文件实施之日起180 d内完成达标判定，制定达标规划，在过渡期内完成达标治理。VOCs治理设施应符合国家和地方安全控制要求，在开停车等非正常排放、事故排放等工况下，确因安全控制短期需要难以满足本文件要求，应及时向所属生态环境行政主管部门报告。
