一、关于膜元件的储存
请遵循以下的规定保存膜元件:
存放地点必须阴冷干燥没有阳光直射;
温度范围--4oC~45oC,新的未经使用的干式元件在低于--4oC时不会受影响;保存在1%SMBS标准保护液中的元件在--4oC以下时会结冰,因此应当避免;
将元件尽可能一直保存在原始的包装内,在温度低于45oC时干元件的保存时间没有限制;
用保护液保存的元件,每3个月必须检查一次微生物的生长状况,如果保护液发生混浊或超过6个月的话,应从包装袋中取出元件,重新浸泡在新鲜的保护液中1小时,沥干后再重新作密封包装;
如果没有设备进行保存(如新鲜的保护液、清洁的环境或封袋机),元件可以在原始的含保护液的袋中存放最多12个月,当元件装入压力容器中时,启用之前则应采用碱性清洗液进行清洗。
保存液pH不可低于3,当亚硫酸氢钠氧化成硫酸时,pH值会降低,这一点对海水淡化膜元件特别重要,因这此膜元件在低pH贮存时,脱盐率会受到影响。因此,亚硫酸氢纳保存液的pH值每3个月至少要抽样检测一下当pH低于3时,需更新保存液。
二、膜元件的再湿润
经过使用之后的膜元件不慎干燥之后,可能会出现不可逆水通量的损失,请试用以下方式进行元件再湿润:
1.在50%乙醇水溶液或丙醇水溶液中浸泡15分钟;
2.将元件加压到10bar并且将产水口关闭30分钟,但应切记在进水压力泄压之前必须先打开产水出水阀门,该步骤可在元件装入系统内进行,在这种情况下,当产水出口关闭时,进水端与浓水端的压差不应大于0.7bar,否则在浓水端就会出现产水背压,引起膜片的损坏,最稳妥的做法是,将产水出口阀门关小,使产水压力接近浓水端压力,这样也就没有必要关心压降的限定问题了;
3.将元件浸泡在1%HCl或4%HNO3中1~100小时,元件必须垂直浸泡,以便于排出元件内的空气。
三、清洗有机物污染
下列清洗程序是专门针对存在有机物如腐植酸和富里酸、阻垢剂或油等污染膜系统的清洗,对于所有清洗过程,其清洗系统配置、pH和温度范围及建议清洗流量值完全相同,建议参考通用清洗导则的规定。
采取六个步骤清洗存在有机物污染的膜元件,但这六个清洗步骤需要重复进行,一次为高pH清洗液,另一次为低pH清洗液:
1)按表7-9配制清洗液:
2)低流量输入清洗液。
当清洗水泵混合清洗液,清洗液预热以及用清洗液置换元件内的原水时,应按表7-1所列流量值的一半即按低流量和低压力操作条件进行,所需的压力仅需达到足以补充进水至浓水的压力损失即可。压力必须低到不会产生明显的渗透产水。低压能够最大限度的减低污垢再次沉淀到膜表面,视情况而定,应排放部分浓水以防止清洗液的稀释。
3)循环。
当原水被置换掉后,浓水管路中就应该出现清洗液,可以让清洗液循环返回清洗液水箱,循环清洗液30分钟如果清洗液颜色仍发生变化,放掉清洗液重新按步骤1)配制新的清洗液。
4)浸泡。
停止清洗泵的运行,让膜元件完全浸泡在清洗液中。元件浸泡时间1~15小时(浸泡过夜将更好)。为了维持浸泡过程的温度,可采用很低的循环流量(约为表7-1所示流量的10%),浸泡时间随污染严重程度而定,对轻度污染,浸泡1~2小时足够。
5)高流量水泵循环。
按表7-1所列的流量循环30分钟。高流量能冲洗掉被清洗液清洗下来的污染物。如果污染严重,请采用高于表7-1所规定的50%的流量将有助于清洗,在高流量条件下,将产生过高压降的问题,单元件最大允许的压降为1bar(15psi),对多元件压力容器最大允许压降为3.5bar(50psi),以先超出为限。
6)冲洗。
经预处理的合格预处理出水可以用于冲洗清洗液,除非存在腐蚀问题(如静止的海水将会腐蚀不锈钢管道)。为了防止沉淀,最低冲洗温度为20oC,系统冲洗时间约1小时。
7)用pH为2的HCl溶液重复步骤2)至6)。
8)重新启动系统。
必须等待元件和系统达到稳定后,记录系统重新启动后的运行参数,清洗后系统性能恢复稳定的时间取决于原先污染的程度。为了获得最佳的性能,有时需要多次的清洗和浸泡步骤。
附加信息
A为了最大地提高清洗效率,清洗液的温度必须高于25oC,升高温度有利于帮助清洗液从膜面上除去有机污染物。
B有些有机物如油类非常难以清洗,为了除去它们,需试验各种清洗浸泡时间以获得最佳效率。此外,最有效的清洗液通常含有表面活性剂如Na-SDS或某些商品清洗剂含有表面活性剂及洗涤剂,它们能帮助除去油污染。请咨询该化学品供应商。
C如果有机污染源于预处理部分加入了过量絮凝剂,相反次序使用清洗剂(先用酸性清洗液后用碱性清洗液)更有
效,为了确定合适的清洗液顺序(先高pH后低pH或反之),请设法获取系统污染物样品,针对样品先用碱性后
用酸性溶液或反之,定性地确认何种顺序更好。如果效果相当,通常先用高pH清洗液清洗有机物更为合适。
原标题:关于膜元件的储存、再湿润及有机物污染的清洗,你的操作规范吗?
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